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鐵磁半導體新突破:居里溫度達到 530 K

發(fā)布時(shí)間:2025-07-08 09:16:01來(lái)源:IT之家

  IT之家 7 月 8 日消息,科技媒體 NeoWin 今天(7 月 8 日)發(fā)布博文,報道稱(chēng)日本科學(xué)家成功研發(fā)新型鐵磁半導體(FMS),可在更高溫度下工作,在 530 K(約256.85℃)時(shí)達到居里溫度。

  IT之家注:居里溫度是指磁性材料中自發(fā)磁化強度降到零時(shí)的溫度,是鐵磁性或亞鐵磁性物質(zhì)轉變成順磁性物質(zhì)的臨界點(diǎn)。

  它代表著(zhù)磁性材料的理論工作溫度極限,居里溫度的大小由物質(zhì)的化學(xué)成分和晶體結構決定,例如鐵的居里溫度約 770℃,鈷的居里溫度約 1131℃。

  在 Pham Nam Hai 教授的領(lǐng)導下,來(lái)自東京科學(xué)研究所的科研團隊成功研發(fā)新型鐵磁半導體,相比較現有材料,能夠在更高溫度下工作。

  

 

  在眾多材料中,摻鐵的窄帶隙 III-V 族半導體,如 (In,Fe) Sb 和 (Ga,Fe) Sb,因其在高居里溫度方面的潛力,而成為研究的重點(diǎn)。然而,在不破壞晶體結構的情況下,引入大量如鐵這樣的磁性元素一直是一個(gè)巨大的挑戰。

  在這個(gè)新研究中,東京團隊找到了解決這個(gè)問(wèn)題的方法。他們使用了一種稱(chēng)為步進(jìn)流生長(cháng)(step-flow growth)的技術(shù),在稍微傾斜(約 10° 偏軸)的 GaAs(100)基底上生長(cháng)(Ga,Fe)Sb 薄膜。這種方法在不破壞材料結構前提下,最高可以引入 24% 的鐵。

  

 

  憑借這一技術(shù),團隊創(chuàng )建了 (Ga?.??Fe?.??) Sb 薄膜,其居里溫度在 470K 至 530K 之間,這是 FMS 研究中迄今為止報道的最高值。

  為了確認磁性,團隊使用了磁圓二色性光譜法,檢查光與自旋極化電子態(tài)的相互作用。他們還使用 Arrott 圖分析磁化數據,這是一種用于確定材料變?yōu)榇判缘臏囟鹊募夹g(shù)。

  樣品中每個(gè) Fe 原子的磁矩約為 4.5μB,接近鋅礦結構中 Fe³?離子的理想 5μB。這大約是普通鐵金屬(α-Fe)磁矩的兩倍。他們還測試了長(cháng)期耐用性。一個(gè) 9.8nm 厚的薄膜在開(kāi)放空氣中存放 1.5 年后,盡管居里溫度略微下降至 470K,仍顯示出強烈的磁性。

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